鎂合金微弧氧化有哪些優(yōu)點(diǎn)?什么是復(fù)合氧化技術(shù)?
發(fā)布日期:2023-12-11 瀏覽次數(shù):754
鎂及其合金作為結(jié)構(gòu)材料有密度小、強(qiáng)度大、無(wú)毒等優(yōu)良性能,但其耐腐蝕性能較差,諸多應(yīng)用受限。目前已存在很多控制鎂合金的降解速率的方法,微弧氧化復(fù)合膜是一種有效且經(jīng)濟(jì)的手段。
鎂合金微弧氧化技術(shù)是指在基體表面借助微區(qū)火花放電而在有色金屬表面原位生長(zhǎng)多孔狀結(jié)構(gòu)的氧化薄膜的技術(shù)。微弧氧化膜具有附著力較好、耐腐蝕、耐磨、生物防腐、抗高溫沖擊、介電常熟低等優(yōu)點(diǎn)。微弧氧化技術(shù)是鎂、鋁、鈦等金屬及其合金常用的表面處理技術(shù)之一,可控制鎂合金微弧氧化膜的氧化層厚度、電化學(xué)成分、孔徑及粗糙度等。
微弧氧化膜包括內(nèi)部致密層和外部多孔層,內(nèi)層是腐蝕介質(zhì)的物理屏蔽,外層的微孔和微孔裂紋可增強(qiáng)有機(jī)物或聚合物在膜上的附著力。目前,多通過(guò)調(diào)節(jié)微弧氧化工藝過(guò)程或進(jìn)行微弧氧化膜后處理來(lái)改善膜層致密度,從而提高其耐蝕性,而微弧氧化工藝過(guò)程調(diào)節(jié)的研究多集中在電參數(shù)和電解液成分調(diào)節(jié),微弧氧化 膜后處理是通過(guò)傳統(tǒng)封孔或復(fù)合膜工藝來(lái)進(jìn)一步提高微弧氧化 膜性能。由于微弧氧化 膜外層的微孔和微裂紋為有機(jī)物或聚合物提供了機(jī)械聯(lián)鎖位點(diǎn),因此,可在鎂合金微弧氧化 膜基礎(chǔ)上開(kāi)發(fā)具有良好結(jié)構(gòu)和耐腐蝕性能的復(fù)合膜,鎂合金微弧氧化 膜可結(jié)合低摩擦層或潤(rùn)滑膜,包括疏水膜、化學(xué)鍍、類(lèi)金剛石膜和硬涂層等。
近年來(lái),雖然鎂合金微弧氧化得以快速發(fā)展,但鎂合金微弧氧化膜容易產(chǎn)生微孔和微裂紋從而降低鎂合金的耐蝕性,并且目前仍存在國(guó)內(nèi)為缺乏大型鎂合金微弧氧化工業(yè)生產(chǎn)線,單一的鎂合金微弧氧化無(wú)法滿(mǎn)足實(shí)際要求、工藝復(fù)雜、成本高等問(wèn)題。因此從技術(shù)的角度加強(qiáng)鎂合金表面處理技術(shù)的發(fā)展、深入研究保護(hù)膜形成的機(jī)理,可進(jìn)一步改善表面防護(hù)膜的性能以解決鎂合金腐蝕痛點(diǎn),在行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域上對(duì)推進(jìn)鎂合金材料在航空航天、交通領(lǐng)域與電子工業(yè)等領(lǐng)域的應(yīng)用具有十分重要的現(xiàn)實(shí)意義和經(jīng)濟(jì)效益。
復(fù)合氧化技術(shù),是一種針對(duì)鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問(wèn)題研發(fā)出的鎂合金表面處理最新工藝,工藝完美的優(yōu)化了這些問(wèn)題,復(fù)合氧化技術(shù)是繼化學(xué)鍍、轉(zhuǎn)化膜涂層、陽(yáng)極氧化、有機(jī)物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發(fā)的最新技術(shù)。鎂合金復(fù)合氧化技術(shù)具有工藝簡(jiǎn)單、材料適應(yīng)性寬等特點(diǎn),所得膜層均勻、質(zhì)硬,可以起到長(zhǎng)期的保護(hù)作用,鹽霧時(shí)間可達(dá)200小時(shí),涂層與基體的結(jié)合緊密,這也是鎂合金表面處理技術(shù)發(fā)展的一個(gè)重要突破。